Патентование изобретений в области высоких и нанотехнологий | страница 27
например, таких, как электрические соединители. Например, разъем [24] был защищен благодаря его адаптации к вакуумным условиям использования в рентгенолитографии за счет регулируемого усилия сжатия контактов.
Основной вывод, который следует из вышесказанного, это то, что в новых областях, даже при использовании традиционного оборудования благодаря огромному количеству новых задач возможно патентование большого количества технических решений. Следует также заметить, что каждое новое направление реализует конечное число технических решений, но открытие новых эффектов порождает серию новых изобретений. Например, в рентгеновской технике было открыто явление сверхтекучести рентгеновских лучей [25], которое открывает целую область его применения. Специфика патентования изобретений, основанных на открытиях, будет рассмотрена ниже.Литература
1. Браун Н., Караламбоус П., Кудряшов В.А. Высоковольтная электроннолучевая нанолитография. Третий всесоюзный семинар. «Микролитография». – Черноголовка, 1990, с. 31.
2. Аристов В. В., Кислов Н.А., Николайчик В. И., Ход ос И. И. Нанолитография в РПЭМ. Третий всесоюзный семинар. «Микролитография». – Черноголовка, 1990, с. 35–36.
3. Патент US5122663. Compact integrated electron beam imaging system. 24.07.1991.
4. Заявка RU2004136940. Поликаналльный объектный столик для исследования микроорганизмов с помощью сканирующего электронного микроскопа JEOL JSM-35C.27.05.2006.
5. Патент RU2297947. Способ изготовления полупроводникового прибора с управляющим электродом нанометровой длины.22.05.2003.
6. Heuberger A., Betz Н. X-ray lithography using synchrotron radiation // SPIE. 1984. vol. 471. p. 221–230.
7. Заявка JP59-33742. Источник рентгеновского излучения. 28.09.82.
8. Заявка JP59-128747. Газоплазменный источник рентгеновского излучения.12.01.83.
9. Заявка JP60-22093. Рентгеношаблон. 05.11.85.
10. Заявка JP59-92531. Рентгеношаблон. 17.11.82
11. Патент US4513077. Electron beam or X-ray reactive imagel-formable resisnous composition. 13.06.83.
12. Нонотаки С. Электронные резисты и рентгенорезисты. – Денси дзеире, 1984, т. 23, № 8, с. 57–61.
13. А.С. СССР № 1354978. Система реперных знаков и способ совмещения рисунка шаблона с рисунком пластины. 06.03.1986.
14. А.С. СССР № 1385843. Система реперных знаков для совмещения шаблона с пластиной, способ совмещения шаблона с пластиной и устройство для совмещения шаблона с пластиной. 18.01.1986.
15. А.С. СССР № 1403839. Устройство для совмещения шаблона и подложки. 06.03.1986.